半導(dǎo)體器件、晶圓、多層芯片與光電元件的微觀結(jié)構(gòu)觀測(cè)，對(duì)表面質(zhì)量、截面平整度、定位精度、無(wú)損傷提出非常高要求。傳統(tǒng)機(jī)械研磨、拋光、切割會(huì)帶來(lái)劃痕、應(yīng)力層、非晶層、界面變形、熱損傷等問(wèn)題，導(dǎo)致 SEM 成像模糊、EBSD 無(wú)法解析、失效分析定位不準(zhǔn)。

Technoorg Linda SEMPREP SMART 氬離子切割/拋光系統(tǒng)（離子研磨儀），以非接觸、無(wú)應(yīng)力、低溫升方式實(shí)現(xiàn)高精度截面制備與表面拋光，很好的適配半導(dǎo)體從材料表征到失效分析的全場(chǎng)景需求，是目前半導(dǎo)體實(shí)驗(yàn)室與產(chǎn)線的主流制樣方案。

01.核心優(yōu)勢(shì)

• 最大 8 mm 寬區(qū)域切割：適合功率器件、MEMS、圖像傳感器等

• 可選冷卻（Peltier / 液氮）：保護(hù)有機(jī)半導(dǎo)體、鈣鈦礦等熱敏材料

• 無(wú)應(yīng)力拋光表面：直接用于EBSD、EDS分析

• AI 輔助配方 + 自動(dòng)化流程：降低操作門(mén)檻，提升重復(fù)性

02.應(yīng)用案例

01.LED 芯片多層結(jié)構(gòu)精細(xì)拋光

LED 芯片由多層異質(zhì)材料堆疊（如 n-GaN、多量子阱發(fā)光層、p-GaN、金屬電極）。研發(fā)人員需要精確測(cè)量各層厚度、界面質(zhì)量以及電極晶粒分布。

使用 SEMPREP SMART 離子研磨儀拋光后能夠清晰顯示金屬導(dǎo)線、多層量子阱結(jié)構(gòu)、外延層界面，在高倍 SEM 下可精確測(cè)量層間距、膜層厚度、界面平整度，并有效識(shí)別分層、空洞、裂紋、夾雜等缺陷。

02.微電子電路元件 - 精準(zhǔn)截面失效分析

在半導(dǎo)體芯片失效分析中，需要對(duì)直徑約 10 μm 的微小接觸點(diǎn)進(jìn)行精準(zhǔn)截面切開(kāi)，以觀察內(nèi)部導(dǎo)通狀態(tài)、層間連接、空洞、裂紋與脫層。傳統(tǒng)制樣方法容易切偏、壓潰結(jié)構(gòu)，無(wú)法滿足分析要求。

SEMPREP SMART 憑借 ±1 μm 對(duì)準(zhǔn)精度，可在芯片表面精確定位切割區(qū)域，通過(guò) 90° 垂直截面穩(wěn)定暴露深層電路結(jié)構(gòu)。制備完成的截面可清晰呈現(xiàn)接觸點(diǎn) — 金屬布線 — 下層電路的完整界面，無(wú)變形、無(wú)偏移、無(wú)損傷。

03.單晶硅晶圓  90°  截面切割

單晶硅是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)最基礎(chǔ)的核心材料，其內(nèi)部缺陷、摻雜分布、截面平整度直接影響器件性能。機(jī)械拋光會(huì)在硅表面形成損傷層與非晶層，導(dǎo)致 SEM 圖像失真、EBSD 衍射斑點(diǎn)模糊。

SEMPREP SMART 采用高能氬離子束進(jìn)行物理濺射刻蝕，以原子級(jí)逐層去除材料，不產(chǎn)生機(jī)械應(yīng)力與熱損傷。在 16 kV 加速電壓、570 μA 束流、1 小時(shí)工藝條件下，可實(shí)現(xiàn) 500 μm 深度的 90° 垂直截面，且全程無(wú)主動(dòng)冷卻，樣品溫升僅 28℃。

最終獲得的截面平整、無(wú)再沉積、無(wú)簾狀效應(yīng)、無(wú)晶格損傷，可直接用于高分辨 SEM 成像、缺陷觀察、晶向分析與 EBSD 測(cè)試。

SEMPREP SMART 氬離子制樣系統(tǒng)為半導(dǎo)體領(lǐng)域提供了高精度、無(wú)損傷、可重復(fù)、高效率的全流程解決方案。它從根本上解決了機(jī)械制樣帶來(lái)的劃痕、應(yīng)力、變形、假象、熱損傷等痛點(diǎn)，覆蓋硅基材料表征、芯片失效分析、光電器件檢測(cè)、先進(jìn)封裝結(jié)構(gòu)觀測(cè)、EBSD / 高分辨 SEM 前置制樣等核心應(yīng)用。